作者
王成成
文章摘要
随着半导体、显示面板等高端制造业的快速发展,超净高纯电子厂房对给排水系统的可靠性、洁净度及节能性提出了极高要求。传统给排水技术难以满足电子厂房在纯水制备、废水处理、防污染控制等方面的严苛标准,亟需开展关键技术研究以突破行业瓶颈。基于此,本文简要分析了超净高纯电子厂房给排水系统关键技术,并针对超净高纯电子厂房给排水系统关键技术应用的有效策略进行了深入探究,以期为行业落实“双碳”目标提供解决方案。
文章关键词
超净高纯电子厂房;给排水系统;关键技术
参考文献
[1] 梁国仑,梁玉.半导体厂供气系统的"超净"技术[J].电子材料(机电部),2022(11):7.
[2] 许振良,魏永明,郎万中,等.超大规模集成电路用超净高纯过氧化氢的制备研究[J].化学试剂,2022,27(10):5.
[3] 穆启道.超净高纯试剂的现状、应用、制备及配套技术[J].化学试剂,2022,24(003):142-145.
Full Text:
DOI