作者
闫亚明
文章摘要
电子级双氧水作为一种高效、安全的清洗剂在集成电路制造过程中得到广泛应用。本文探讨了双氧水在去除污染物、微粒和有机物中的卓越性能，分析了其对半导体材料的兼容性。通过实验和数据分析，研究了优化双氧水清洗工艺的方法，包括浓度调节、温度控制和辅助技术的应用，以提高清洗效果和生产效率。研究结果显示，优化后的清洗技术不仅能显著提高集成电路的良率，还能有效降低生产成本。本文为集成电路制造中的清洗过程提供了理论支持和实践指导。
文章关键词
电子级双氧水；集成电路；清洗技术；优化工艺；半导体制造
参考文献
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